Einführung in Halbleiterreinigungsräume
Ein Halbleiterreinraum ist eine kontrollierte Umgebung, die entworfen wurde, um die Kontamination bei der Herstellung von Mikrochips, integrierten Schaltungen (ICs) und anderen elektronischen Komponenten zu minimieren.Selbst mikroskopische Partikel können die Produktion stören, so daß Reinräume für eine hochproduktive Fertigung unerlässlich sind.
Zu den wichtigsten Merkmalen gehören:
Ultra-niedrige Partikelzahl(ISO-Klasse 1-9)
Strenge Temperatur-/Feuchtigkeitskontrolle(Genauigkeit ± 0,1 °C)
Fortgeschrittene Luftfilterung(HEPA/ULPA-Filter)
Schutz vor elektrostatischer Entladung (ESD)
Diese Einrichtungen entsprechen internationalen Standards wieISO 14644-1(Cleanroom-Klassifizierung) undSEMI S2/S8(Richtlinien für die Sicherheit von Geräten).
Standards für die Einstufung von Reinräumen
ISO 14644-1 Reinraumklassen
Halbleiterreinigungsräume arbeiten typischerweise beiISO-Klasse 1 bis 5, bedeutet:
ISO-Klasse | Maximale Partikel (≥ 0,1 μm/m3) | Allgemeine Anwendungsfälle |
ISO 1 | 10 | Hochmoderne EUV-Lithographie |
ISO 3 | 1,000 | Produktion von 3D-NAND-Wafern |
ISO 5 | 100,000 | Herstellung von Legacy-Chips |
Branchenspezifische Normen
SEMI-Standards: Definieren Sie die Kompatibilität der Ausrüstung (z. B. SEMI F47 für Spannungsschwundsicherheit).
Der Wert der Vermögenswerte wird auf der Grundlage der in Anhang I der Verordnung (EU) Nr. 575/2013 festgelegten Vermögenswerte berechnet.: Ältere US-Norm durch ISO 14644 ersetzt.
Kritische Merkmale der Reinraumgestaltung
1. Luftströmungssteuerung
Einrichtungströmung (Laminar): Vertikal/Horizontale Luftströmung zum Abfegen von Partikeln.
Umlaufsysteme: Wiederverwendung von mehr als 90% Luft mit HEPA-Filtration.
2Material- und Personalprotokolle
Ansprüche an die Kleidung:
Klasse 1-3: volle Kaninchenanzüge mit Gesichtsmasken.
Klasse 5-6: Begrenzte Abdeckung (Kapuze, Handschuhe).
Materielle Einschränkungen: Nichtvergießbare Metalle/Kunststoffe (z. B. Edelstahl, PTFE).
3. Schwingungen und EMI-Minderung
Bodenstabilität: isolierte Platten (1-2 μm Schwingungsgrenzwerte proIEST-RP-CC012)
EMI-Schutz: Verhindert Störungen empfindlicher Messgeräte.
Warum Reinräume in der Halbleiterherstellung von Bedeutung sind
Vorbeugung von Defekten
Ein einzelnes 20 μm-Partikel kann einen 5 nm-Transistor ruinieren.
Ertragsverlust(bis zu 50% in unkontrollierten Umgebungen).
Kreuzkontamination(z. B. Kupferdoping in Silizium).
Kosteneffizienz
Verringerung der Ausfallzeiten: Weniger Verunreinigungen bedeuten weniger Waferverarbeitung.
Einhaltung der VorschriftenTagungenIEEE 1680für nachhaltige Elektronik.
Schlussfolgerung
Halbleiterreinigungen sind präzise konstruierte Umgebungen, die für die Herstellung zuverlässiger Chips von entscheidender Bedeutung sind.ISO, SEMI und IESTSie ermöglichen eine Fertigung im Nanometermaßstab mit minimalen Defekten.Die Technologie für Reinräume entwickelt sich weiter, da KI-basierte Partikelüberwachung und modulare Reinräume an Bedeutung gewinnen..
Für die Hersteller ist die Investition in zertifizierte Reinräume nicht optional; sie ist das Rückgrat der Halbleiterinnovation.